光敏印章是日本发明的，时间是上个世纪九十年代初，它通过专用设备瞬间发出强光辅射，是由一种特殊的化工合成材料，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。其印迹可与印刷品质媲美，是目前最好的、最先进的印章产品，美观耐用，无须印台。（一次注油可印10000次以上）。具有成像极其清晰，无需印泥，即印即干的特点。
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